碳化硅半导体技术与应用 SiC材料生长表面清洗欧姆肖特基接触离子注入干法刻蚀电解质制备 2册碳化硅器件工艺核心技术 原书第2版
折后¥59
最近售0件
碳化硅半导体技术与应用 SiC材料生长表面清洗欧姆肖特基接触离子注入干法刻蚀电解质制备书 2册碳化硅器件工艺核心技术 原书第2版
折后¥100.6
最近售0件
衬底结晶 松波弘之 晶体生长 晶体管 大谷昇 器件设计 离子注入 碳化硅半导体技术与应用 官网正版 原书第2版 功率器件模块
折后¥92.4
最近售0件
4
and Synthesis Materials 离子注入与材料合成 海外直订Ion Implantation
70元
券后¥1033¥1033.00
5
Distributions Implantation Energy Low Volume Deposition 离子注入范围和能量沉积分布 and Incide 海外直订Ion Range
70元
券后¥1033¥1033.00
6
离子注入：综合书目 Microelectronics Comprehensive 微电子中 海外直订Ion Implantation Bibliography
70元
券后¥1033¥1033.00
7
the Implantation Proceedings Confere II. 离子注入：第二届 Semiconductors 半导体中 海外直订Ion International
70元
券后¥1033¥1033.00
8
and Synthesis 离子注入与材料合成 海外直订Ion Implantation Materials
70元
券后¥1033¥1033.00
9
the Implantation Given Ion 离子注入技术：与第四届离子 Lectures 海外直订Ion Techniques School
70元
券后¥1193¥1193.00
10
Fourth Implantation the Proceedings 离子注入 Techniques 第四届 and 设备和技术 海外直订Ion Equipment Internatio
70元
券后¥1193¥1193.00
11
离子注入 Semiconductors and Other 半导体和其他材料中 海外直订Ion Implantation Materials
70元
券后¥1193¥1193.00
12
半导体材料和器件方面研究人员参考9 郑旭东 表面增强拉曼光谱 TiO2和WO3 氧空位调控及其光电磁学特性 离子注入水热法和真空退火
2元
券后¥46.4¥58.00
13
Basics 基础 Device 离子注入：器件制造 海外直订Ion Implantation Fabrication
90元
券后¥2274¥2274.00
14
Basics 基础 Device 离子注入：器件制造 海外直订Ion Implantation Fabrication
90元
券后¥2274¥2274.00
15
碳化硅半导体技术与应用 SiC材料生长表面清洗欧姆肖特基接触离子注入干法刻蚀电解质制备书 2册碳化硅器件工艺核心技术 原书第2版
3元
券后¥100.6¥100.60
16
社 著 9787522103846 离子注入法制备石墨烯 张瑞 中国原子能出版
1元
券后¥31¥31.00
17
离子注入：科学与技术 Semiconductors Science and 半导体中 海外直订Ion Implantation Technology
15元
券后¥553¥553.00
18
and Diamond 金刚石 Related Graphite 离子注入 石墨及相关材料 Implantation 海外直订Ion Materials
15元
券后¥553¥553.00
19
衬底结晶 松波弘之 晶体生长 晶体管 大谷昇 器件设计 离子注入 碳化硅半导体技术与应用 官网正版 原书第2版 功率器件模块
折后¥100.8¥168.00
20
2010表面化学分析二次离子质谱由离子注入参考物质确定相对灵敏度因子 图书 纸版 T25186
折后¥12.4¥12.40
21
14141 2009 直排四探针法 硅外延层 测定 扩散层和离子注入层薄层电阻
折后¥26.1¥29.00
22
离子注入法制备石墨烯张瑞普通大众石墨纳米材料制备工业技术书籍
折后¥17.4¥17.40
23
程序 T34174 2017表面化学分析工作参考物质中离子注入产生 图书 推荐 纸版 驻留面剂量定值
折后¥29.2¥29.20
24
图书 测定直排四探针法 T14141 扩散层和离子注入层薄层电阻 纸版 2009硅外延层
折后¥14.6¥14.60
25
程序 T34174 2017表面化学分析工作参考物质中离子注入产生 图书 推荐 纸版 驻留面剂量定值
折后¥32.12¥32.12
26
2010表面化学分析二次离子质谱由离子注入参考物质确定相对灵敏度因子 图书 纸版 T25186
折后¥13.64¥13.64
27
2010表面化学分析二次离子质谱由离子注入参考物质确定相对灵敏度因子 图书 纸版 T25186
折后¥13.64¥13.64
28
离子注入法制备石墨烯 9787522103846 中国原子能出版 社 官方正版 张瑞著
折后¥19.6¥19.60
29
25186 2010 二次离子质谱 由离子注入参考物质确定相对灵敏度因子 表面化学分析
折后¥21.6¥24.00
30
周小东中国农业出版 书籍 离子注入制备纳米颗粒及能研究9787109286030 社工业技术
折后¥34.4¥34.40
31
离子注入制备纳米颗粒及能研究周小东书店工业技术中国农业出版 读乐尔畅销书 正版 社书籍
折后¥34.4¥34.40
32
2012离子注入机通用规范 图书 纸版 T15862
折后¥17.7¥17.70
33
正版 社 离子注入法治备石墨烯张瑞原子能出版
折后¥19.8¥19.80
34
张瑞 书店工业技术 读乐尔畅销书 中国原子能出版 书籍 正邮 离子注入法制备石墨烯 社
折后¥23.8¥23.80
35
程序 2017 表面化学分析 工作参考物质中离子注入产生 34174 推荐 驻留面剂量定值
折后¥38.7¥43.00
36
15862 离子注入机通用规范 2012
折后¥27.9¥31.00
37
库玛尔·舒巴姆 VLSI工艺集成书籍 现代集成电路制造技术 半导体芯片制造晶片制备外延氧化光刻蚀刻扩散离子注入薄膜沉积封装
折后¥78.8¥78.80
38
库玛尔·舒巴姆 VLSI工艺集成书籍 现代集成电路制造技术 半导体芯片制造晶片制备外延氧化光刻蚀刻扩散离子注入薄膜沉积封装
折后¥79¥79.00
39
图书 测定直排四探针法 T14141 扩散层和离子注入层薄层电阻 纸版 2009硅外延层
折后¥16.06¥16.06
40
2012离子注入机通用规范 图书 纸版 T15862
折后¥16.09¥16.09